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純金屬濺射靶材是集成電路用關(guān)鍵基礎(chǔ)材料，對實現(xiàn)集成電路用靶材的全面自主可控，推動集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展具有基礎(chǔ)性價值。在我國，集成電路用高純金屬濺射靶材行業(yè)起步較晚、基礎(chǔ)薄弱，近年來受益于國家支持...
濺射靶材集中用于信息存儲、集成電路、顯示器、汽車后視鏡等產(chǎn)業(yè)[1]，主要用于磁控濺射各種薄膜材料。磁控濺射是一種制備薄膜材料的方法，利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流, 被加速的粒子流轟擊...
目前的情況下，濺射靶材的制造以及磁控濺射技術(shù)和工藝水平下，薄膜的沉積工藝中依然有一些常見的異常缺陷，研究如何解決這些缺陷，不僅可以提高芯片的良率，更重要是可以保證芯片功能的完備從而降低芯片失效的風(fēng)險...
靶材是幾乎所有電子器件中不可或缺的材料之一，因為靶材能夠提供獨特的物理和化學(xué)性質(zhì)，這些性質(zhì)可以用于制造微型電路板、半導(dǎo)體芯片、納米材料、薄膜涂層等各種電子部件。不同種類的靶材具有不同的化學(xué)成分和物理特性，...
近年來，我國高新技術(shù)領(lǐng)域迅猛發(fā)展，航空航天、海洋工程、石油化工及武器裝備等高端領(lǐng)域結(jié)構(gòu)件正向輕量化、高強(qiáng)化、高可靠性和耐久性等極端服役性能發(fā)展，鈦合金因其比強(qiáng)度高、耐蝕性好、耐高溫、抗疲勞等優(yōu)異性能...
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