鉻靶Chromium target | 性能Product performance | ||
純度/% Purity | 99.5 | 99.95 | |
密度/g/cm3 Density | ≥7.12 | ≥7.12 | |
晶粒度/μm Grain size | ≤100 | ≤100 | |
金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities | ≤5000 | ≤500 | |
熱導(dǎo)率/W/m.K Thermal conductivity | 60 | 100 | |
熱膨脹系數(shù)/1/K | 8×10-6 | 8×10-6 | |
鉻靶產(chǎn)品詳情介紹：
生產(chǎn)的鉻靶材采用先進(jìn)的熱等靜壓(HIP)工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶、環(huán)形靶和大長徑比整體成形管靶等類型，具有純度和密度可控、晶粒細(xì)小均勻、使用壽命長等優(yōu)點(diǎn)。
應(yīng)用領(lǐng)域：工具鍍膜、裝飾鍍膜、電子行業(yè)、平面顯示器行業(yè)等。
